Китайская корпорация CETC разработала полную серию собственных ионных имплантеров

Пекин, 30 июня /Синьхуа/ -- Дочерняя компания Китайской корпорации электронных технологий /CETC/ успешно разработала полную серию отечественных ионных имплантеров, используемых в производстве чипов по 28-нанометровому технопроцессу, сообщили инфорагентству Синьхуа в CETC.

Ионный имплантер представляет собой один из ключевых видов оборудования для выпуска чипов. В этом процессе ионная имплантация, то есть введение посторонних атомов в полупроводниковые монокристаллы при ионной бомбардировке его поверхности, используется для создания требуемой примесной электропроводности полупроводника.

Дочерняя компания CETC добилась прорывов в освоении ключевых технологий и разработала семейство ионных имплантеров, начиная от имплантеров среднего тока, высокого тока и высокой энергии, до имплантеров для полупроводников третьего поколения, которые могут охватывать 28-нанометровый производственный процесс.

Новое достижение позволит надежно гарантировать промышленную безопасность страны в сфере отечественного производства микросхем, говорится в заявлении CETC.